等離子清洗機(jī)工作原理分析：
  電漿與材料外觀可產(chǎn)生的反應(yīng)重要有兩種，一種是靠自由基來(lái)做化學(xué)反應(yīng)，另一種則是靠等離子作物理反應(yīng)，以下將作更詳細(xì)的說(shuō)明。
  （1）化學(xué)反應(yīng)（Chemical reaction）
  在化學(xué)反應(yīng)里常用的氣體有氫氣（H2）、氧氣（O2）、甲烷（CF4）等，這些氣體在電漿內(nèi)反應(yīng)成高活性的自由基，其方程式為：
  這些自由基會(huì)進(jìn)一步與材料外觀作反應(yīng)。
  其反應(yīng)機(jī)理重要是行使等離子體里的自由基來(lái)與材料外觀做化學(xué)反應(yīng)，在壓力較高時(shí)，對(duì)自由基的產(chǎn)生較有利，所以若要以化學(xué)反應(yīng)為主時(shí)，就必須控制較高的壓力來(lái)近進(jìn)行反應(yīng)。
  （2）物理反應(yīng)（Physical reaction）
  重要是行使等離子體里的離子作純物理的撞擊，把材料外觀的原子或附著材料外觀的原子打掉，因?yàn)殡x子在壓力較低時(shí)的平均自由基較輕長(zhǎng)，有得能量的累積，因而在物理撞擊時(shí)，離子的能量越高，越是有的作撞擊，所以若要以物理反應(yīng)為主時(shí)，就必須控制較的壓力下來(lái)進(jìn)行反應(yīng)，如許清洗結(jié)果較好，為了進(jìn)一步說(shuō)明各種設(shè)備清洗的結(jié)果。
 
等離子體清洗機(jī)的機(jī)理，重要是寄托等離子體中活性粒子的“活化作用”達(dá)到去除物體外觀污漬的目的。就反應(yīng)機(jī)理來(lái)看，等離子體清洗通常包括以下過程：無(wú)機(jī)氣體被激發(fā)為等離子態(tài)；氣相物質(zhì)被吸附在固體外觀；被吸附基團(tuán)與固體外觀分子反應(yīng)生成產(chǎn)物分子；產(chǎn)物分子解析形成氣相；反應(yīng)殘余物離開外觀。
 
等離子體清洗技術(shù)的最大特點(diǎn)是不分處理對(duì)象的基材類型，均可進(jìn)行處理，對(duì)金屬、半導(dǎo)體、氧化物和大多數(shù)高分子材料，如聚丙烯、聚脂、聚酰亞胺、聚氯乙烷、環(huán)氧、甚至聚四氟乙烯等都能很好地處理，并可實(shí)現(xiàn)團(tuán)體和局部以及復(fù)雜結(jié)構(gòu)的清洗。
 
等離子體清洗還具有以下幾個(gè)特點(diǎn)：容易采用數(shù)控技術(shù)，主動(dòng)化程度高；具有高精度的控制裝配，時(shí)間控制的精度很高；精確的等離子體清洗不會(huì)在外觀產(chǎn)生損傷層，外觀質(zhì)量得到保證；因?yàn)槭窃谡婵罩羞M(jìn)行，不污染環(huán)境，保證清洗外觀不被二次污染。
 
l  等離子清洗機(jī)的清洗分類：
1 反應(yīng)類型分類
等離子體與固體外觀發(fā)生反應(yīng)可以分為物理反應(yīng)（離子轟擊）和化學(xué)反應(yīng)。物理反應(yīng)機(jī)制是活性粒子轟擊待清洗外觀，使污染物離開外觀最終被真空泵吸走；化學(xué)反應(yīng)機(jī)制是各種活性的粒子和污染物反應(yīng)生成易揮發(fā)性的物質(zhì)，再由真空泵吸走揮發(fā)性的物質(zhì)。
以物理反應(yīng)為主的等離子體清洗，也叫做濺射腐蝕（SPE）或離子銑（IM），其好處在于自己不發(fā)生化學(xué)反應(yīng)，清潔外觀不會(huì)留下任何的氧化物，可以保持被清洗物的化學(xué)純凈性，腐蝕作用各向異性；瑕玷就是對(duì)外觀產(chǎn)生了很大的損害，會(huì)產(chǎn)生很大的熱效應(yīng)，對(duì)被清洗外觀的各種不同物質(zhì)選擇性差，腐蝕速度較低。以化學(xué)反應(yīng)為主的等離子體清洗的好處是清洗速度較高、選擇性好、對(duì)消滅有機(jī)污染物比較有用，瑕玷是會(huì)在外觀產(chǎn)生氧化物。和物理反應(yīng)相比較，化學(xué)反應(yīng)的瑕玷不易戰(zhàn)勝。并且兩種反應(yīng)機(jī)制對(duì)外觀微觀形貌造成的影響有明顯不同，物理反應(yīng)能夠使外觀在分子級(jí)范圍內(nèi)變得更加“粗糙”，從而改變外觀的粘接特征。還有一種等離子體清洗是外觀反應(yīng)機(jī)制中物理反應(yīng)和化學(xué)反應(yīng)都起緊張作用，即反應(yīng)離子腐蝕或反應(yīng)離子束腐蝕，兩種清洗可以互相促進(jìn)，離子轟擊使被清洗外觀產(chǎn)生損傷減弱其化學(xué)鍵或者形成原子態(tài)，容易吸取反應(yīng)劑，離子碰撞使被清洗物加熱，使之更容易產(chǎn)生反應(yīng)；其結(jié)果是既有較好的選擇性、清洗率、均勻性，又有較好的方向性。
典型的等離子體物理清洗工藝是氬氣等離子體清洗。氬氣自己是惰性氣體，等離子體的氬氣不和外觀發(fā)生反應(yīng)，而是通過離子轟擊使外觀清潔。典型的等離子體化學(xué)清洗工藝是氧氣等離子體清洗。通過等離子體產(chǎn)生的氧自由基特別很是活潑，容易與碳?xì)浠衔锇l(fā)生反應(yīng)，產(chǎn)生二氧化碳、一氧化碳和水等易揮發(fā)物，從而去除外觀的污染物。
 
2 激發(fā)頻率分類
等離子態(tài)的密度和激發(fā)頻率有如下關(guān)系：
nc=1.2425×10⁸v²
其中nc為等離子態(tài)密度（cm-3），v為激發(fā)頻率（Hz）。
常用的等離子體激發(fā)頻率有三種：激發(fā)頻率為40kHz的等離子體為超聲等離子體，13.56MHz的等離子體為射頻等離子體，2.45GHz的等離子體為微波等離子體。
不劃一離子體產(chǎn)生的自偏壓不一樣。超聲等離子體的自偏壓為1000V左右，射頻等離子體的自偏壓為250V左右，微波等離子體的自偏壓很低，只有幾十伏，而且三種等離子體的機(jī)制不同。超聲等離子體發(fā)生的反應(yīng)為物理反應(yīng)，射頻等離子體發(fā)生的反應(yīng)既有物理反應(yīng)又有化學(xué)反應(yīng)，微波等離子體發(fā)生的反應(yīng)為化學(xué)反應(yīng)。超聲等離子體清洗對(duì)被清潔外觀產(chǎn)生的影響最大，因而現(xiàn)實(shí)半導(dǎo)體生產(chǎn)應(yīng)用中大多采用射頻等離子體清洗和微波等離子體清洗。