易能納米-一種真空鍍膜轉架結構

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2022-08-08 13:26:36

擇要：本實用新型涉及真空鍍膜設備技術領域，公開了一種真空鍍膜轉架結構，包括基座及設置于基座的轉軸，所述轉軸的上部設置有至少一個支架，所述支架設置有效于承載工件的輔助機構，還包括用于驅動所述轉軸的驅動裝配；行使本轉架結構，將工件掛載于輔助機構上，驅動裝配驅動轉軸轉動，從而使工件能夠實現全方位的鍍膜，本轉架的結構簡單、控制方便。
申請人：廣東易能納米科技有限公司
地址： 523000 廣東省東莞市松山湖高新技術產業開發區工業南路6號2棟307、308室
發明(設計)人：肖橋兵
主分類號： C23C14/50(2006.01)I
分類號： C23C14/50(2006.01)I

擇要：本實用新型涉及真空鍍膜設備技術領域，公開了一種真空鍍膜轉架結構，包括基座及設置于基座的轉軸，所述轉軸的上部設置有至少一個支架，所述支架設置有效于承載工件的輔助機構，還包括用于驅動所述轉軸的驅動裝配；行使本轉架結構，將工件掛載于輔助機構上，驅動裝配驅動轉軸轉動，從而使工件能夠實現全方位的鍍膜，本轉架的結構簡單、控制方便。

申請人： 廣東易能納米科技有限公司

地址： 523000 廣東省東莞市松山湖高新技術產業開發區工業南路6號2棟307、308室

發明(設計)人： 肖橋兵

主分類號： C23C14/50(2006.01)I

分類號： C23C14/50(2006.01)I

法律狀況

2015-11-18	授權

注：本法律狀況信息僅供參考，即時正確的法律狀況信息須到國家知識產權局辦理專利登記簿副本。

其他信息

主權項	一種真空鍍膜轉架結構，包括基座（1）及設置于基座（1）的轉軸（11），其特性在于：所述轉軸（11）的上部設置有至少一個支架（2），所述支架（2）設置有效于承載工件的輔助機構（3），還包括用于驅動所述轉軸（11）的驅動裝配（4）。

公開號	204779792U

公開日	2015-11-18

專利代理機構	東莞市華南專利商標事務所有限公司 44215

代理人	張明

頒證日

優先權

國際申請

國際宣布

進入國家日期