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WaterOff

2022-08-08 13:51:18

擇要：	本發明涉及一種具有聚合物涂層的電氣或電子設備，通過將上述設備暴露于脈沖等離子體充足長的時間使得在電氣或電子設備的外觀上形成聚合物層而形成，所述永沖等離子體含有化學式(I)透露表現的化合物，其中R1，R2和R3自力地選自氫原子，烷基，鹵烷基或任選被鹵素庖代的芳基；R4是X-R5基團，其中R5是烷基或鹵烷基，且X是化學鍵；化學式-C(O)O(CH2)nY-的基團，其中n是1-10的整數，Y是化學鍵或磺酰胺基團；或化學式-(O)PR6·(o)q.(CH2)t-的基團，其中R6是任選被鹵素庖代的芳基，p是0或1，q是0或1，并且t是0或1-10的整數，前提是，當q是1時，t不為0。如許類型的設備被珍愛不受液體，尤其是外界液體的污染。
申請人：	P2I 有限公司
地址：	英國牛津郡
發明(設計)人：	S.庫爾森
主分類號：	C09D4/00(2006.01)I
分類號：	C09D4/00(2006.01)I B05D7/24(2006.01)I
法律狀況
2013/12/18	實質審查的生效IPC(主分類):C09D 4/00申請日:20070119

2013/11/20	公開

注：本法律狀況信息僅供參考，即時正確的法律狀況信息須到國家知識產權局辦理專利登記簿副本。
其他信息
主權項	一種具有聚合物涂層的電氣或電子設備，通過將所述設備暴露于含有化學式（Ⅰ）化合物的脈沖等離子體充足長的時間使得在電氣或電子設備的外觀上形成珍愛性聚合物層而形成其中?R1,?R2?和R3自力地選自氫原子，烷基，鹵烷基或任選被鹵素庖代的芳基；R4是X?R5?基團，其中R5?是烷基或鹵烷基，且X是化學鍵；化學式的基團，其中n是1－10的整數，Y是化學鍵或磺酰胺基團；或化學式的基團，其中R6?是任選被鹵素庖代的芳基，p是0或1，q是0或1，并且t是0或1－10的整數，前提是，當q是1時，t不為0。

公開號	103396688A

公開日	2013-11-20

專利代理機構	中國專利代理(香港)有限公司 72001

代理人	林毅斌楊思捷

頒證日

優先權	2006.01.20 GB 0601117.5;2006.01.26 US 60/762242

國際申請

國際宣布

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