
真空鍍膜設備基礎知識匯總
1.真空室
涂層設備重要有延續涂層生產線及單室涂層機兩種情勢,不銹鋼材料制造、氬弧焊接、外觀進行化學拋光處理,真空室組件上焊有各種規格的法蘭接口。
2.真空獲得部分
在真空技術中,真空獲得部分是緊張組成部分。真空的獲得不是一種真空設備和方法所能達到的,必須將幾種泵聯合使用,如機械泵、羅茨泵、分子泵體系等。
5.工藝氣體輸入體系
工藝氣體,如氬氣(Ar)、氪氣(Kr)、氮氣(N2)、乙炔(C2H2)、甲烷(CH4)、氫氣(H2)、氧氣(O2)等,一樣平常均由氣瓶供給,經氣體減壓閥、氣體截止閥、管路、氣體流量計、電磁閥、壓電閥,然后通入真空室。這種氣體輸入體系的好處是,管路簡捷、明快,維修或替換氣瓶容易。各涂層機之間互不影響。也有多臺涂層機共用一組氣瓶的情況,這種情況在一些規模較大的涂層車間可能有機會看到。它的益處是,削減氣瓶占用量,同一規劃、同一布局。瑕玷是,因為接頭增多,使漏氣機會增長。而且,各涂層機之間會互干系擾,一臺涂層機的管路漏氣,有可能會影響到其他涂層機的產品質量。此外,替換氣瓶時,必須保證所有機臺都處于非用氣狀況。
9.水冷體系
一樣平常由冷水塔,冰水機,水泵等組成。
10.工控體系
二、常見的真空檢漏方法
該技術是真空檢漏領域里不可缺少的一種技術,因為檢漏服從高,簡便易操作,儀器反應靈敏,精度高,不易受其他氣體的干擾,在檢漏中得到了廣泛應用。氦質譜檢漏儀是根據質譜學原理,用氦氣作示漏氣體系方式成的氣密性檢測儀器。由離子源、分析器、收集器、冷陰極電離規組成的質譜室和抽氣體系及電氣部分等組成。質譜室里的燈絲發射出來的電子,在室內往返地振蕩,并與室內氣體和經漏孔進人室內的氦氣相互碰撞使其電離成正離子,這些氦離子在加速電場作用下進人磁場,因為洛倫茲力作用產生偏轉,形成圓弧形軌道,改變加速電壓可使不同質量的離子通過磁場和接收縫到達接收極而被檢測。噴氦法、吸氦法是氦質譜檢漏儀在檢漏中最常用的兩種方法。
將真空泥逐個封住可疑漏點,詳細觀察真空度的轉變,如果貼上真空封泥真空度提拔很快,取掉有顯明降落,說明這是一個漏點。這種方法在現實應用中,采用的比較少。
有些真空計的讀數,與氣體種類有關,比如熱偶計,電離真空計。選用適當的氣體或液體做示漏物質,這些真空計便成了探測器,一樣平常鍍膜機上都有真空計,使用起來很方便,也是常用到的一種檢漏方法。用于熱偶計的示漏物質有,二氧化碳,丁烷,酒精等熱偶計反應較慢,觀察要很細心。用于電離計的示漏物質有氦,氬,酒精等。
這種方法僅適用于玻璃真空體系。先將體系抽成真空,高頻火花檢漏儀的火花端沿著玻璃外觀移動,火花集中成束形成亮點處即是漏孔位置。
通過以下幾個反
一、化學清洗:
圖 1 氧等離子體去除有機物
從反應式可見,氫等離子體通過化學反應可以去除金屬外觀氧化層,清潔金屬外觀。
二、物理清洗:
例:Ar+e-→Ar++2e-Ar++沾污→揮發性沾污
圖 3 氬等離子體外觀能活化
四、為什么加熱能改善膜層附著力?
任何固體材料在大氣環境下都會消融和吸附一些氣體,當材料置于真空狀況時就會由于脫附、解析而出氣。出氣的速率與材料中的氣體含量成正比。不同的材料解析的氣體成分及解析的溫度及時間是不同的。

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