
jetplasma一體式等離子處理系統設備介紹
如今,更多行業開始提出更高的需求—在不改變產品本體的基礎上引入新性能、新功能,用來提升產品的良率、價值、拓寬產品應用領域。等離子體作為物質第四態,其高活性與載能性,在不改變任何物體本體特性基礎上,為物體表面帶來更多增值增能的變化性。
此篇,我們就首先介紹下稷以科技的 “一體式等離子處理系統設備“—Triton160
Triton-160 應用領域
面向大半導體市場工業級客戶與研發型客戶使用需求設計的范用型等離子處理設備,適用于等離子清洗、活化以及刻蝕等多種應用。設備可在嚴苛環境下穩定運行,獲得高度均一化的處理效果。
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金屬鍵合前處理:通過等離子處理去除焊盤表面的金屬氧化層,提升后續鍵合工藝的良率與結合力。
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塑封前處理:經由等離子活化樣品表面,提升塑封料的結合力,減少分層、空洞等不良的產生。
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底部填充前處理:等離子活化提升膠體在表面的流動性,消除空洞與氣泡,增強填充效果。
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光刻膠去除:去除表面殘膠,形成清潔、活化的表面。
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表面粗化與微蝕:消除表面應力,使材料更易結合。
Triton-160 運作特點
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13.56MHz射頻電源與自動匹配系統,具有優異的穩定性與可重復性。
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靈活的電極結構設置與優化的氣體饋入、分布方案,確保大批量處理的均勻性。
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精準安全的反應源供應系統,可滿足多種工藝需求。
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PLC與工控機提供穩定的過程控制,設備運行的實時參數通過顯示屏直觀呈現。
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系統穩定可靠,易于保養與維護。
Triton-160 產能數據對比(以4寸晶圓為例)
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已在LED行業,芯片封裝行業大規模投入量產。
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產品本體的產能,均勻性都高度提升,達到36片每爐,爐內均勻性可達80%以上。
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設備的整體設計緊湊,占地面積和以往的傳統設備相比,可以減少20%以上。
Triton-160 設備尺寸
Triton-160 合作客戶
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此篇,Triton-160 作為JET PLASMA的首要設備介紹,而在稍后,我們會介紹我們其它專業產品線的設備,以及其設備已在合作客戶領域的的成功操作案例。
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