歐洲等離子公司- 用于低壓力等離子體工藝在延續(xù)功率模式下生成等離子體的改動體例

WaterOff

2022-08-08 13:52:51

擇要：	本發(fā)明涉及一種方法，包括步驟：引入包括待在低壓力反應腔室中涂敷的外觀的襯底；在所述反應腔室內在處理時段期間將所述外觀暴露于等離子體；通過施加功率輸入來確保穩(wěn)固等離子體激發(fā)，其特性在于，功率輸入在所述處理時段期間延續(xù)地嚴酷高于零瓦特(W)，并且包括至少一個下限功率以及嚴酷大于所述下限功率的至少一個上限功率，由此獲得具有受涂敷的外觀的襯底。本發(fā)明還涉及一種用于通過低壓力等離子體工藝來處理襯底的裝配以及因此而處理的襯底。
申請人：	歐洲等離子公司
地址：	比利時奧德納爾德
發(fā)明(設計)人：	F.利堅 E.羅格 M.塞庫
主分類號：	B05D1/00(2006.01)I
分類號：	B05D1/00(2006.01)I H01J37/32(2006.01)I
法律狀況
2016/11/16	實質審查的生效 IPC(主分類):B05D 1/00申請日:20141007

2016/8/10	公開

注：本法律狀況信息僅供參考，即時正確的法律狀況信息須到國家知識產權局辦理專利登記簿副本。
其他信息
主權項	一種涂敷方法，包括以下步驟：?引入包括待在低壓力反應腔室中涂敷的外觀的襯底；?在所述反應腔室內在處理時段期間將所述外觀暴露于等離子體；?通過施加功率輸入來確保穩(wěn)固等離子體激發(fā)，其特性在于，功率輸入在所述處理時段期間延續(xù)地嚴酷高于零瓦特(W)，并且包括至少下限功率和嚴酷大于所述下限功率的至少上限功率，并且上限功率與下限功率之間的改變的功率序列在處理時段期間重復，由此獲得具有受涂敷的外觀的襯底。

公開號	105848789A

公開日	2016-08-10

專利代理機構	北京市柳沈律師事務所 11105

代理人	史新宏

頒證日

優(yōu)先權	2013.10.07 EP 13187623.7

國際申請	2014-10-07 PCT/EP2014/071466

國際宣布	2015-04-16 WO2015/052199 EN

進入國家日期	2016.05.30