HZO-用于施涂珍愛性涂層的遮蔽基底

WaterOff

2022-08-08 13:55:00

擇要：公開了施加珍愛性涂層到基底的選定部分上的方法。該方法包括施加掩膜到未被珍愛性涂層覆蓋的基底的至少一個部分上或者在其上形成掩膜。可通過施加可流動的材料到基底上，選擇性形成掩膜。或者，可由預成形的膜形成掩膜。在掩膜位于適當位置的情況下，可施加珍愛性涂層到基底和掩膜上。可在與掩膜的周邊處或者與之相鄰的位置處，例如通過從珍愛性涂層上切割，減弱或除去材料，由珍愛性涂層的其他部分勾畫覆蓋掩膜的部分珍愛性涂層。覆蓋掩膜的部分珍愛性涂層，和掩膜，然后可從基底上除去。
申請人： HZO股份有限公司
地址：美國猶他
發明(設計)人： D·J·阿瑟爾 T·C·蔡爾德 V·K·卡撒甘尼 C·L·露斯 B·L·史蒂文斯 M·E·索倫森
主分類號： B05D1/32(2006.01)I
分類號： B05D1/32(2006.01)I

擇要：公開了施加珍愛性涂層到基底的選定部分上的方法。該方法包括施加掩膜到未被珍愛性涂層覆蓋的基底的至少一個部分上或者在其上形成掩膜。可通過施加可流動的材料到基底上，選擇性形成掩膜。或者，可由預成形的膜形成掩膜。在掩膜位于適當位置的情況下，可施加珍愛性涂層到基底和掩膜上。可在與掩膜的周邊處或者與之相鄰的位置處，例如通過從珍愛性涂層上切割，減弱或除去材料，由珍愛性涂層的其他部分勾畫覆蓋掩膜的部分珍愛性涂層。覆蓋掩膜的部分珍愛性涂層，和掩膜，然后可從基底上除去。

申請人： HZO股份有限公司

地址： 美國猶他

發明(設計)人： D·J·阿瑟爾 T·C·蔡爾德 V·K·卡撒甘尼 C·L·露斯 B·L·史蒂文斯 M·E·索倫森

主分類號： B05D1/32(2006.01)I

分類號： B05D1/32(2006.01)I

法律狀況

2016-02-17	實質審查的生效IPC(主分類):B05D 1/32申請日:20140107

2015-10-21	公開

注：本法律狀況信息僅供參考，即時正確的法律狀況信息須到國家知識產權局辦理專利登記簿副本。

其他信息

主權項	施加珍愛性涂層到基底上的方法，該方法包括：制備掩膜材料以供施加到基底上；施加掩膜材料到基底的至少一個選定位置上，至少一個選定位置是通過珍愛性涂層暴露的位置；和施加力到掩膜材料上，以使掩膜材料與基底的至少一個選定位置的外形基本上貼合；和在該掩膜材料上施加珍愛性涂層。

公開號	104994965A

公開日	2015-10-21

專利代理機構	中國國際貿易促進委員會專利商標事務所 11038

代理人	陳季壯

頒證日

優先權	2013.01.08 US 61/750,257;2013.01.08 US 61/750,254

國際申請	2014-01-07 PCT/US2014/010526

國際宣布	2014-07-17 WO2014/110046 EN

進入國家日期	2015.08.18