上海稷以科技-導(dǎo)氣裝置、真空腔和真空等離子體設(shè)備

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2022-08-08 14:02:29

摘要：本實(shí)用新型涉及真空等離子體設(shè)備領(lǐng)域，公開了一種導(dǎo)氣裝置、真空腔和真空等離子體設(shè)備，導(dǎo)氣裝置包括導(dǎo)氣桿，導(dǎo)氣桿設(shè)置于真空等離子體設(shè)備的真空腔內(nèi)，導(dǎo)氣桿的外殼圍合形成中空腔體，端部設(shè)置有氣體入口，外殼上還開有若干個(gè)導(dǎo)氣孔；氣體入口與真空腔的進(jìn)氣孔相連通；氣體經(jīng)進(jìn)氣孔和氣體入口進(jìn)入中空腔體內(nèi)，通過導(dǎo)氣孔進(jìn)入真空腔，再?gòu)恼婵涨坏某闅饪谥辛鞒觥Ｔ谡婵涨粌?nèi)設(shè)置該導(dǎo)氣裝置能夠改進(jìn)真空腔的氣體均勻性。
申請(qǐng)人：上海稷以科技有限公司
地址： 200241 上海市閔行區(qū)東川路555號(hào)戊樓4026室
發(fā)明(設(shè)計(jì))人：季文竹彭帆
主分類號(hào)： H05H1/24(2006.01)I
分類號(hào)： H05H1/24(2006.01)I

摘要：本實(shí)用新型涉及真空等離子體設(shè)備領(lǐng)域，公開了一種導(dǎo)氣裝置、真空腔和真空等離子體設(shè)備，導(dǎo)氣裝置包括導(dǎo)氣桿，導(dǎo)氣桿設(shè)置于真空等離子體設(shè)備的真空腔內(nèi)，導(dǎo)氣桿的外殼圍合形成中空腔體，端部設(shè)置有氣體入口，外殼上還開有若干個(gè)導(dǎo)氣孔；氣體入口與真空腔的進(jìn)氣孔相連通；氣體經(jīng)進(jìn)氣孔和氣體入口進(jìn)入中空腔體內(nèi)，通過導(dǎo)氣孔進(jìn)入真空腔，再?gòu)恼婵涨坏某闅饪谥辛鞒觥Ｔ谡婵涨粌?nèi)設(shè)置該導(dǎo)氣裝置能夠改進(jìn)真空腔的氣體均勻性。

申請(qǐng)人： 上海稷以科技有限公司

地址： 200241 上海市閔行區(qū)東川路555號(hào)戊樓4026室

發(fā)明(設(shè)計(jì))人： 季文竹彭帆

主分類號(hào)： H05H1/24(2006.01)I

分類號(hào)： H05H1/24(2006.01)I

法律狀態(tài)

2018-01-30	授權(quán)

注：本法律狀態(tài)信息僅供參考，即時(shí)準(zhǔn)確的法律狀態(tài)信息須到國(guó)家知識(shí)產(chǎn)權(quán)局辦理專利登記簿副本。

其他信息

主權(quán)項(xiàng)	一種導(dǎo)氣裝置，包括導(dǎo)氣桿(4)，所述導(dǎo)氣桿(4)設(shè)置于真空等離子體設(shè)備的真空腔(1)內(nèi)，其特征在于：所述導(dǎo)氣桿(4)的外殼圍合形成中空腔體，端部設(shè)置有氣體入口(3)，所述外殼上還開有若干個(gè)導(dǎo)氣孔(4a)；所述氣體入口(3)與所述真空腔(1)的進(jìn)氣孔(2)相連通；氣體經(jīng)所述進(jìn)氣孔(2)和所述氣體入口(3)進(jìn)入所述中空腔體內(nèi)，通過所述導(dǎo)氣孔(4a)進(jìn)入所述真空腔(1)，再?gòu)乃稣婵涨?1)的抽氣口(5)中流出。

公開號(hào)	206948695U

公開日	2018-01-30

專利代理機(jī)構(gòu)	上海立群專利代理事務(wù)所(普通合伙) 31291

代理人	侯莉

頒證日

優(yōu)先權(quán)

國(guó)際申請(qǐng)

國(guó)際公布

進(jìn)入國(guó)家日期