
上海稷以科技-平板電極結(jié)構(gòu)和等離子體沉積設(shè)備
摘要:本實(shí)用新型涉及等離子處理設(shè)備領(lǐng)域,公開了一種平板電極結(jié)構(gòu)和應(yīng)用了該種平板電極結(jié)構(gòu)的等離子體沉積設(shè)備,平板電極結(jié)構(gòu)包括:至少一個(gè)陰極和一個(gè)陽極,且這些陰極和陽極之間依次交替設(shè)置;其中,至少有一個(gè)陽極內(nèi)形成有第一送氣通道,且在陽極朝向陰極的一面的中部開有第一出氣口,在陽極的邊緣開有第一進(jìn)氣口;氣體從第一進(jìn)氣口進(jìn)入第一送氣通道,從第一出氣口排出,形成等離子體。本實(shí)用新型能夠改善等離子體沉積薄膜的厚度均勻性。 |
申請(qǐng)人: 上海稷以科技有限公司 |
地址: 200241 上海市閔行區(qū)東川路555號(hào)戊樓4026室 |
發(fā)明(設(shè)計(jì))人: 唐玄玄 王俊 |
主分類號(hào): H05H1/34(2006.01)I |
分類號(hào): H05H1/34(2006.01)I C23C16/50(2006.01)I |
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法律狀態(tài)
2018-01-30 | 授權(quán) |
注:本法律狀態(tài)信息僅供參考,即時(shí)準(zhǔn)確的法律狀態(tài)信息須到國家知識(shí)產(chǎn)權(quán)局辦理專利登記簿副本。
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其他信息
主權(quán)項(xiàng) | 一種平板電極結(jié)構(gòu),用于等離子體沉積設(shè)備,包括:至少一個(gè)陰極(2)和一個(gè)陽極(1),且這些陰極(2)和陽極(1)之間依次交替設(shè)置;所述平板電極結(jié)構(gòu)還包括電極支架,用于支撐所述陰極(2)和所述陽極(1);其特征在于:至少有一個(gè)陽極(1)內(nèi)形成有第一送氣通道,且在所述陽極(1)朝向陰極(2)的一面的中部開有第一出氣口(12),在所述陽極(1)的邊緣開有第一進(jìn)氣口(11);氣體從所述第一進(jìn)氣口(11)進(jìn)入所述第一送氣通道,從所述第一出氣口(12)排出,形成等離子體。 |
公開號(hào) | 206948696U |
公開日 | 2018-01-30 |
專利代理機(jī)構(gòu) | 上海立群專利代理事務(wù)所(普通合伙) 31291 |
代理人 | 侯莉 何靜生 |
頒證日 | |
優(yōu)先權(quán) | |
國際申請(qǐng) | |
國際公布 | |
進(jìn)入國家日期 |

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