PACVD 離子增強化學氣相沉積是在高度真空環境，溫度低于 200 ℃的情況下，沉積極度光滑，粘著性能好的無定形金剛石硬質合金涂層。相對 PVD 工藝， PaCVD 工藝應用深鍍電源，無需陰極靶材，同時工件在爐膛中無需旋轉，該工藝為干凈無污染，可靠，和多性能的涂層工藝。 PACVD 又叫 PECVD 。 
加工溫度
PACVD 涂層的加工溫度在 200 ℃以下，大多數材料都能被用來涂層。
典型的涂層零件
PACVD 可用于絕大多數基體材料，電導材料和絕緣材料，典型應用包括發動機貨物機械零件、泵零件、醫療器件和裝飾件。
典型的涂層類型
愛恩邦德 PACVD 過程沉積大量的 ADLC 涂層。這一設計運用于特別的應用領域，包括高細密應用領域，低應力應用領域和陶器應用領域。 
涂層極高硬度（ 10 — 40Gpa ），在結構組織上無定形并含有約 70% 的 SP3 bondings。 
涂層厚度為 2~3 微米，典型的工藝時間大約 3.5 小時。 
技術過程上風
• 適合多種材料 
• 削減工藝時間，進步生產服從 
• 低工藝溫度，尺寸變形小 
• 涂層厚度均勻，無論對幾何外形簡單照舊復雜的零件 
• 工藝對環境無污染 

• 可對內孔進行涂層

PACVD 加工過程