一、濕式清洗

噴淋清洗
在清洗槽內安裝噴淋管，在氣相中將清洗液噴灑在被清洗物上的清洗方式。壓力可調 。

減壓清洗
在清洗槽內產生負壓，因為減壓，洗滌劑能較好地滲透到被清洗物和縫隙之間；和超聲波并用，清洗結果會大大加強。

噴霧清洗
在清洗槽內安裝噴淋管，在氣相中將清洗液噴灑在被清洗物上的清洗方式。壓力可調 。

旋轉筒清洗
在清洗槽內安裝旋轉裝配，同時旋轉筒體和攪拌被清洗物。多與噴流、超聲波清洗組合使用。

動搖清洗
在清洗槽內安裝動搖機構，裝入被清洗物，使之在清洗槽內活動，多與噴流、超聲波清洗組合使用。

一．真空加熱清洗

二．紫外線輻照清洗

三．放電清洗

 四.氣體沖洗

      氮氣在材料外觀吸附時，因為吸附能小，因而吸留外觀時間極短.即便吸附在器壁上，也很容易被抽走。行使氮氣的這種性子沖洗真空體系，可以大大縮短體系的抽氣時間。如真空鍍膜機在放入大氣之前，先用干燥氮氣充入真空室沖刷一下再充入大氣，則下一抽氣循環的抽氣時間可縮短近一半，其緣故原由為氮分予的吸附能遠比水氣分子小，在真空下充入氮氣后，氮分子先被真空室壁吸附了。因為吸附位是肯定的，先被氮分子占滿了，其吸附的水分子就很少了，因而使抽氣時間縮短了。假如體系被擴散泵油噴濺污染了，還可以行使氮氣沖洗法來清洗被污染的體系.一樣平常是一邊對體系進行烘烤加熱，一邊用氮氣沖洗體系，可將油污染消弭。

      這種方法分外適用于大型超高不銹鋼真空體系的內部洗(去除碳氫化合物污染)。通常對于某些大型超高真空體系的真空室和真空元件，為了獲得原子態的清潔外觀，消弭其外觀污染的標準方法是化學清洗，真空爐焙燒、輝光放電清洗及原能烘烤真空體系等方法。以上的清洗和除氣方法常用于真空體系安裝前及裝置期間。在真空體系安裝后(或體系運行后)，因為真空體系內的各種零部件已經被固定，這時對它們進行除氣處理就很困難，一旦體系受到(無意)污染(重要是大原子數的分子如碳氫化合物的污染)，通常要拆卸后重新處理再安裝．而用反應氣體工藝，可以進行原位在線除氣處理．有用地除去不銹鋼真空室內的碳氫化合物的污染.其清洗機理：在體系中引述氧化性氣體(O2、N0 )和還原性氣體(H2、N H3)對金屬外觀進行化學反應清洗，消弭污染，以便獲得原子態的清潔金屬外觀。外觀氧化／還原的速率取決于污染的情況及金屬外觀的材質，外觀反應速率的大小通過調整反應氣體的壓力和溫度來控制。對于每一種基材而言，正確的參數要通過實驗來確定.對于不同的結晶取向，這些參數是不同的．

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