上海稷以科技-表面處理系統和腔體結構

WaterOff

2022-08-08 14:03:44

摘要：本實用新型涉及真空設備領域，公開了一種表面處理系統和腔體結構，腔體結構包括：料盒、射頻電極和接地電極；表面處理系統包括設置有進氣模塊和抽氣口的真空等離子腔體，真空等離子腔體內設置有料盒、射頻電極和接地電極。料盒內裝有多個標的物，這些標的物在料盒內間隔設置，并使任意相鄰的兩個標的物之間預留有供氣流通過的間隙；料盒的側壁上設置有若干個通風槽，通風槽和間隙數量相對應設置，使得通風槽和間隙共同構成了經過標的物表面的氣流通道；射頻電極位于料盒的一側，且正對氣流通道；接地電極至少有一部分位于料盒的另一側，且正對氣流通道。本實用新型能夠提高標的物的表面處理效果。
申請人：上海稷以科技有限公司
地址： 200241 上海市閔行區東川路555號戊樓4026室
發明(設計)人：唐玄玄彭帆
主分類號： H01J37/36(2006.01)I
分類號： H01J37/36(2006.01)I

摘要：本實用新型涉及真空設備領域，公開了一種表面處理系統和腔體結構，腔體結構包括：料盒、射頻電極和接地電極；表面處理系統包括設置有進氣模塊和抽氣口的真空等離子腔體，真空等離子腔體內設置有料盒、射頻電極和接地電極。料盒內裝有多個標的物，這些標的物在料盒內間隔設置，并使任意相鄰的兩個標的物之間預留有供氣流通過的間隙；料盒的側壁上設置有若干個通風槽，通風槽和間隙數量相對應設置，使得通風槽和間隙共同構成了經過標的物表面的氣流通道；射頻電極位于料盒的一側，且正對氣流通道；接地電極至少有一部分位于料盒的另一側，且正對氣流通道。本實用新型能夠提高標的物的表面處理效果。

申請人： 上海稷以科技有限公司

地址： 200241 上海市閔行區東川路555號戊樓4026室

發明(設計)人： 唐玄玄彭帆

主分類號： H01J37/36(2006.01)I

分類號： H01J37/36(2006.01)I

法律狀態

2018-02-02	授權

注：本法律狀態信息僅供參考，即時準確的法律狀態信息須到國家知識產權局辦理專利登記簿副本。

其他信息

主權項	一種表面處理系統，包括用于清潔標的物(6)的等離子體表面處理設備，其特征在于，所述等離子體表面處理設備包括：設置有進氣模塊(3)和抽氣口(7)的真空等離子體腔體(1)，所述真空等離子體腔體(1)內設置有料盒(2)、射頻電極(5)和接地電極(4)；所述料盒(2)內裝有多個標的物(6)，這些標的物(6)在所述料盒(2)內間隔設置，并使任意相鄰的兩個標的物(6)之間預留有供氣流通過的間隙(8a)；所述料盒(2)的側壁上開有若干個通風槽(8b)，所述通風槽(8b)和所述間隙(8a)相對應設置，使得所述通風槽(8b)和所述間隙(8a)共同構成了經過所述標的物(6)表面的氣流通道(8)；所述射頻電極(5)位于所述料盒(2)的一側，且正對所述氣流通道(8)；所述接地電極(4)至少有一部分位于所述料盒(2)的另一側，且正對所述氣流通道(8)；氣體經由所述進氣模塊(3)進入所述真空等離子體腔體(1)內，在所述射頻電極(5)和所述接地電極(4)的電場作用下電離，通過所述氣流通道(8)并對所述標的物(6)的表面進行處理，再從所述抽氣口(7)中被抽出。

公開號	206961792U

公開日	2018-02-02

專利代理機構	上海立群專利代理事務所(普通合伙) 31291

代理人	侯莉

頒證日

優先權

國際申請

國際公布

進入國家日期