昆山彰盛奈米-一種氣流均勻分散裝置

WaterOff

2022-08-08 14:05:59

摘要：一種氣流均勻分散裝置，包括支架，其特征在于：所述的支架的兩側設有固定卡，所述的支架的外側從上到下設有通氣孔，所述的通氣孔間的間距從上到下依次減小，所述的通氣孔的開口的大小從上到下依次增大。優選的，所述的支架內通過固定架固定有擋流板。本實用新型的有益效果在于：在傳統的鍍膜設備上加裝本實用新型提供的氣流均勻分散裝置，對進入鍍膜設備的氣流進行分散處理，為鍍膜設備內部提供均勻的氣流，保證3D-Wafer晶元硅通孔涂層的均勻穩定性。
申請人：昆山彰盛奈米科技有限公司
地址： 215331 江蘇省蘇州市昆山市陸家鎮楊家路9號1號廠房
發明(設計)人：徐志淮
主分類號： C23C16/455(2006.01)I
分類號： C23C16/455(2006.01)I

摘要：一種氣流均勻分散裝置，包括支架，其特征在于：所述的支架的兩側設有固定卡，所述的支架的外側從上到下設有通氣孔，所述的通氣孔間的間距從上到下依次減小，所述的通氣孔的開口的大小從上到下依次增大。優選的，所述的支架內通過固定架固定有擋流板。本實用新型的有益效果在于：在傳統的鍍膜設備上加裝本實用新型提供的氣流均勻分散裝置，對進入鍍膜設備的氣流進行分散處理，為鍍膜設備內部提供均勻的氣流，保證3D-Wafer晶元硅通孔涂層的均勻穩定性。

申請人： 昆山彰盛奈米科技有限公司

地址： 215331 江蘇省蘇州市昆山市陸家鎮楊家路9號1號廠房

發明(設計)人： 徐志淮

主分類號： C23C16/455(2006.01)I

分類號： C23C16/455(2006.01)I

法律狀態

2015-09-09	授權

注：本法律狀態信息僅供參考，即時準確的法律狀態信息須到國家知識產權局辦理專利登記簿副本。

其他信息

主權項	一種氣流均勻分散裝置，包括支架，其特征在于：所述的支架的兩側設有固定卡，所述的支架的外側從上到下設有通氣孔，所述的通氣孔間的間距從上到下依次減小，所述的通氣孔的開口的大小從上到下依次增大;以保證上下流阻趨于一致，氣流經過支架后均勻分散。

公開號	204625783U

公開日	2015-09-09

專利代理機構	北京科億知識產權代理事務所(普通合伙) 11350

代理人	湯東鳳

頒證日

優先權

國際申請

國際公布

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