擇要： 本實用新型提供了一種基于低壓等離子化學氣相沉積制備納米多層膜的裝配，包括：用于放置基體工件的真空的反應腔；向所述反應腔內持續供應氧氣的氧氣輸送體系；向所述反

申請號： CN201480006796.X (進入下載頁) 申請日： 2014-01-31 申請/專利權人： 柯尼卡美能達株式會社 公開/通知布告號： CN104968492A 發明/設計人： 伊東宏明 公開/通知布告日： 2015-10-07 主分類

擇要： 用于監測電子裝配接觸到水分的體系和方法可改變或變更電子裝配的操作。可以改變或變更電子裝配的操作以提供電子裝配接觸到水的關照。當電子裝配接觸到水時，可改變電子

擇要： 本發明公開了珍愛涂層，所述珍愛涂層被配置成用于在電子設備內覆蓋電子部件，同時使得能夠行使由所述珍愛涂層覆蓋的電觸點來建立電連接。這種珍愛涂層可以包括聚對二甲

擇要： 本發明涉及具有內部防水涂層的電子裝配。防水電子裝配包括至少部分地由防水涂層覆蓋的至少一個電子組件。防水涂層可位于電子裝配的內部。防水涂層可僅覆蓋電子裝配內的

擇要： 本發明公開了用于感測電子設備內的水分的體系、設備和方法。設備可以包括殼體和表現器，所述殼體和表現器限制電子設備的外部和所述電子設備的內部。進一步地，所述設備

擇要： 批露了一種材料處理體系，其阻止從其熱解管到一種或多種相鄰元件例如蒸發腔室或沉積腔室的紅外輻射傳輸。這種材料處理體系可包含具有非線性元件的至少一根導管。這種導

擇要： 用于材料沉積體系的熱解管包含多個通道。通道可通過熱解管的內部元件來限制,或通過形成用于常規構造熱解管的嵌件的內部元件來限制。所述通道中的一個或多個通道可直線

擇要： 本發明涉及聚合材料的前體的剖析圖。公開了用于獲得一批或很多前體材料的剖析圖并且在處理前體材料以形成聚合物的同時使用該剖析圖的方法。在這種方法中，可產生與特定

擇要： 一種用于對大量星散電子設備組裝件施加珍愛涂層的裝配，包括處理元件，該處理元件配置為使該大量電子設備在珍愛涂層被施加到電子設備前作好預備。該裝配也包括涂覆元件