摘要： 本發(fā)明涉及真空等離子體設(shè)備領(lǐng)域，公開(kāi)了一種導(dǎo)氣桿、真空腔和真空等離子體設(shè)備，導(dǎo)氣桿設(shè)置于真空等離子體設(shè)備的真空腔內(nèi)，其外殼圍合形成中空腔體，端部設(shè)置有氣體入

摘要： 本發(fā)明提供一種在物體表面形成保護(hù)層的方法，包括：將所述物體的至少一部分表面暴露于等離子體中，形成所述等離子體的氣體至少包括由化學(xué)式(I)表示的化合物，其中，R1、

擇要： 本發(fā)明公開(kāi)一種可正確控制每層厚度、以及均勻度，增長(zhǎng)膜層與基體粘合力的低壓等離子化學(xué)氣相沉積的方法，本方法步驟如下：a.往反應(yīng)腔內(nèi)放置基體工件，對(duì)反應(yīng)腔進(jìn)行抽真

擇要： 本發(fā)明提供了一種基于低壓等離子化學(xué)氣相沉積制備納米多層膜的裝配，包括：用于放置基體工件的真空的反應(yīng)腔；向所述反應(yīng)腔內(nèi)持續(xù)供應(yīng)氧氣的氧氣輸送體系；向所述 反應(yīng)

擇要： 本發(fā)明公開(kāi)一種膜層純度高，可正確控制膜層厚度的等離子法沉積膜層的裝配，包括有反應(yīng)室、抽氣設(shè)備、氣體輸送體系和脈沖微波發(fā)生器，抽氣設(shè)備和氣體輸送體系與反應(yīng)室連

擇要： 本發(fā)明公開(kāi)一種無(wú)論多路氣路如何切換，都可以保證流量器流出氣量穩(wěn)固的真空反應(yīng)體系，包括有多條主氣路和真空反應(yīng)腔，每條主氣路與真空反應(yīng)腔連接，在主氣路上沿供氣方

擇要： 本實(shí)用新型提供了一種基于低壓等離子化學(xué)氣相沉積制備納米多層膜的裝配，包括：用于放置基體工件的真空的反應(yīng)腔；向所述反應(yīng)腔內(nèi)持續(xù)供應(yīng)氧氣的氧氣輸送體系；向所述反

申請(qǐng)?zhí)枺?CN201480006796.X (進(jìn)入下載頁(yè)) 申請(qǐng)日： 2014-01-31 申請(qǐng)/專(zhuān)利權(quán)人： 柯尼卡美能達(dá)株式會(huì)社 公開(kāi)/通知布告號(hào)： CN104968492A 發(fā)明/設(shè)計(jì)人： 伊東宏明 公開(kāi)/通知布告日： 2015-10-07 主分類(lèi)

擇要： 用于監(jiān)測(cè)電子裝配接觸到水分的體系和方法可改變或變更電子裝配的操作。可以改變或變更電子裝配的操作以提供電子裝配接觸到水的關(guān)照。當(dāng)電子裝配接觸到水時(shí)，可改變電子

擇要： 本發(fā)明公開(kāi)了珍愛(ài)涂層，所述珍愛(ài)涂層被配置成用于在電子設(shè)備內(nèi)覆蓋電子部件，同時(shí)使得能夠行使由所述珍愛(ài)涂層覆蓋的電觸點(diǎn)來(lái)建立電連接。這種珍愛(ài)涂層可以包括聚對(duì)二甲