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HZO-用于施涂珍愛性涂層的遮蔽基底
擇要： 公開了施加珍愛性涂層到基底的選定部分上的方法。該方法包括施加掩膜到未被珍愛性涂層覆蓋的基底的至少一個部分上或者在其上形成掩膜。可通過施加可流動的材料到基底上
WaterOff
2022-08-08
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HZO-用于將珍愛涂層選擇性地施加到電子部件的設備和體系及其相干方法
擇要： 用于將珍愛涂層施加到電子裝配組件或其它襯底的設備可以包括托盤，所述托盤能夠保持多個襯底。托盤可以在襯底上方選擇性地關閉。下托盤元件和/或上托盤元件可以在上面
WaterOff
2022-08-08
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HZO-用于施涂珍愛性涂層的遮蔽基底
擇要： 公開了施加珍愛性涂層到基底的選定部分上的方法。該方法包括施加掩膜到未被珍愛性涂層覆蓋的基底的至少一個部分上或者在其上形成掩膜。可通過施加可流動的材料到基底上
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2022-08-08
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HZO-用于將材料引入材料處理體系的托架體系
擇要： 本發明公開了一種用于將材料引入材料處理體系的托架體系。在各個特性方面和實施例中，本公開涉及用于容納并保持前驅物材料的托架體系。托架體系可以用于材料處理體系內
WaterOff
2022-08-08
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歐洲等離子公司- 外觀涂層
擇要： 本發明涉及一種將焊穿聚合物涂層沉積到未涂布的印刷電路板上的方法，其包括在有機硅烷前體單體的聚合室中使用平均低功率和低壓等離子體聚合，所述有機硅烷前體單體借助
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2022-08-08
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歐洲等離子公司- 外觀涂層
擇要： 本發明涉及一種將焊穿聚合物涂層沉積到未涂布的印刷電路板上的方法，其包括在有機硅烷前體單體的聚合室中使用平均低功率和低壓等離子體聚合，所述有機硅烷前體單體借助
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2022-08-08
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歐洲等離子公司- 外觀涂層
擇要： 本發明涉及一種將焊穿聚合物涂層沉積到未涂布的印刷電路板上的方法，其包括在有機硅烷前體單體的聚合室中使用平均低功率和低壓等離子體聚合，所述有機硅烷前體單體借助
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2022-08-08
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歐洲等離子公司- 用于低壓力等離子體工藝在延續功率模式下生成等離子體的改動體例
擇要： 本發明涉及一種方法，包括步驟：引入包括待在低壓力反應腔室中涂敷的外觀的襯底；在所述反應腔室內在處理時段期間將所述外觀暴露于等離子體；通過施加功率輸入來確保穩
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2022-08-08
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歐洲等離子公司-用于施加外觀涂層的裝配和方法
擇要： 本發明提供用于在例如織物片上施加外觀涂層的方法并且進一步提供用于將織物片用聚合物層涂布的等離子體腔室(10)，所述織物例如紡織品材料，等離子體腔室(10)包括在等離子
WaterOff
2022-08-08
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P2I有限公司-通過等離子體接枝聚合使物品具有耐液性的方法
擇要： 本發明涉及一種珍愛物品不致因吸取液體而增重的方法,所述方法包括使所述物品暴露于氣態等離子體充足長的時間以在所述物品的外觀上產生珍愛層,分外是聚合物層。 申請人：
WaterOff
2022-08-08
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