1 一樣平常術(shù)語(yǔ) 1.1 真空鍍膜 vacuum coating ：在處于真空下的基片上制取膜層的一種方法。 1.2 基片 substrate ：膜層承受體。 1.3 試驗(yàn)基片 testing substrate ：在鍍膜開始、鍍膜過程中或鍍膜結(jié)

《真空鍍膜技術(shù)》專題已經(jīng)來到了最后一期，感謝各位的支撐！你們的支撐是我們堅(jiān)持的動(dòng)力。上期我們說的是真空鍍膜，這期我們就來說說，膜厚的計(jì)算及測(cè)量。 膜厚的計(jì)算 在真空

上周咱們聊了PVD的那些事，那么真空鍍膜技術(shù)的另一緊張分支化學(xué)氣相沉積（CVD）又有那些特點(diǎn)？ 一路去看看吧！ CVD 化學(xué)氣相沉積（Chemical Vapor Deposition,CVD）是把一種或幾種含有構(gòu)成

上期介紹的真空泵是獲得真空狀況的工具，但是怎么知道真空度達(dá)到了什么水平呢？這個(gè)就要靠真空的測(cè)量工具真空計(jì)。下面跟小編來熟悉一下真空計(jì)吧。 絕對(duì)真空計(jì) 直接測(cè)量真空度

真空體系一旦啟動(dòng)，體系管道中就存在定向的氣體流動(dòng)，即淡薄氣體沿管道的流動(dòng)。 氣體在管道中的流動(dòng)狀況不同，管道的流導(dǎo)也不一樣，也就是說，管道對(duì)氣體的流動(dòng)的影響，不僅取

1PECVD的種類 1.1射頻加強(qiáng)等離子體化學(xué)氣相淀積（RF-PECVD） 等離子體化學(xué)氣相淀積是在低壓化學(xué)氣相淀積的同時(shí)，行使輝光放電等離子對(duì)過程施加影響，在襯底上制備出多晶薄膜。這種方

等離子體化學(xué)氣相沉積技術(shù) 1．技術(shù)內(nèi)容及技術(shù)關(guān)鍵 等離子體化學(xué)氣相沉積技術(shù)原理是行使低溫等離子體（非平衡等離子體）作能量源，工件置于低氣壓下輝光放電的陰極上，行使輝光

納米技術(shù) 1納米（nm）=10-9米，大約為一根頭發(fā)絲直徑的萬(wàn)分之一；物質(zhì)的基礎(chǔ)單元--原子的直徑約為10-10米。在微觀世界中細(xì)菌（200-600nm）、病毒（30-100nm）皆為納米級(jí)尺寸。 納米技術(shù)是

當(dāng)今世界最優(yōu)質(zhì)的敷形涂層材料 Parylene Parylene 學(xué)名 聚對(duì)二甲苯(中文 音譯 :派瑞林、派拉綸 或 派利靈)是對(duì)一系列獨(dú)特的高聚物的一個(gè) 統(tǒng)稱。 Parylene是六十年代中期美國(guó)聯(lián)合炭化物公司

IC納米涂層 防水 尚在驗(yàn)證 市場(chǎng)變量將讓三防手機(jī)順勢(shì)燎燃 隨著2015年智能終端增速見頂，且智能手機(jī)趨于同質(zhì)化征象突顯，差異化創(chuàng)新勢(shì)必是終端廠商深耕市場(chǎng)殺手锏。邇來，業(yè)內(nèi)盛傳